制药纯化水反渗透设备电子行业权坤可定制

产品摘要：　制药纯化水反渗透设备电子行业权坤可定制水设备简单来说就是生产纯净水的设备，通过反渗透系统的膜过滤工艺，滤除原水中的钙离子、镁离子、钠离子等，使其随废水排除，理论上使得水中只含有水分子。现在随着生活饮用和工业生产对水质的要求越来越高，使得它广泛被应用于各个域。

产品型号：QKCV
厂商性质：生产厂家
更新时间：2025-06-06
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详细介绍

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电子工业中，从阴射线管到二管、晶体管等离散装置，标称特征大小为零。从不到5毫米的复杂集成电路，有多种产品。集成电路的生产，特别是现代化的生产，不同于任何产业应用对高纯度数量的要求。锅炉的水质要求用离子的含量表示，不包括粒子和细菌。但是电子工业必须考虑水的所有污染物，包括离子、有机物、粒子和二氧化硅。一般来说，电子工业用超纯水进行表面清洗。集成电路生产过程中暴露的硅多要经过30 ~ 40个生产过程。在每个过程中，导电或绝缘的材料层被添加到硅的表面。因此，在添加下一层之，必须用硫酸、氢氟酸等腐蚀性化学药品蚀刻部分表面。为了*冲洗和清除硅表面的化学药品，化学蚀刻过程之间需要超纯水。其他电子产品制造过程也包括表面清洗，但集成电路的尺寸太小，水中的污染物会在硅表面添加大量杂质，使电路钝化。钠离子和氯化物等东西吸附在电路的特定层上，改变装置的电气特性和终产品的性质。水中的有机物倾向于迁移到表面，与表面结合。含量低的溶解有机物也可以附着在套装上。

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破坏电路中后续层的位置。粒子(如细菌)的大小无疑会超过较小集成电路的特性大小，从而破坏额外的层，或者在相邻电路之间产生电气短路。

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电子产业18mh cm超纯制备系统图。该系统由预处理、反渗透、一次离子交换和精炼循环供水系统三部分组成。根据原水质量、水型、系统规模大小及终水质指标的要求，局部有一定的变化。原水是地表水，规模较小的系统经常使用活性炭去除余氯，大型系统使用注入还原剂的方法。原水对于地下水、规模较小的系统，为了防止反渗透系统中碳酸盐种类和硫酸盐种类的沉淀，优先选择软化机去除钙、镁，大型系统通常采用自动注入阻抗剂的方法。初离子交换工艺取决于原水含盐量的高低和规模。

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