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半导体行业超纯水制备反渗透设备

半导体行业超纯水制备反渗透设备 反渗透纯水设备是采用反渗透、EDI等技术,高效去除水中离子、杂质及微生物,产出高纯度水的专业装置。设备自动控制,自动维护、脱盐率高、产水水质稳定可靠,电阻率可达18 MΩ•cm。该设备广泛应用于电子半导体行业的芯片清洗、电力锅炉的补给水、生物制药的制剂生产以及精细化工等领域。

  • 产品型号:QKCF
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2025-12-11
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详细介绍

       半导体行业超纯水制备反渗透设备

反渗透纯水设备是采用反渗透、EDI等技术,高效去除水中离子、杂质及微生物,产出高纯度水的专业装置。设备自动控制,自动维护、脱盐率高、产水水质稳定可靠,电阻率可达18 MΩ•cm。该设备广泛应用于电子半导体行业的芯片清洗、电力锅炉的补给水、生物制药的制剂生产以及精细化工等领域。

发渗透纯水设备主要采用的是反渗透膜技术。它的工作原理是对水施加一定的压力,使水分子和离子态的矿物质元素通过反渗透膜,而溶解在水中的绝大部分无机盐(包括重金属)、有机物以及细菌、病毒等无法透过反渗透膜,从而使渗透过的纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开;反渗透膜上的孔径只有0.0001微米,而病毒的直径一般有0.02-0.4微米,普通细菌的直径有0.4-1微米。主要用于工业电子清洗,食品饮料加工等。

半导体行业超纯水制备反渗透设备


半导体行业超纯水制备反渗透设备 应用领域:

1、电厂化学水处理

2、电子、半导体、精密机械行业超纯水

3、食品、饮料、饮用水的制备

4、小型纯水站,团体饮用纯水

5、精细化工、精尖学科用水

6、其他行业所需的高纯水制备

7、制药工业工艺用水

8、海水、苦咸水的淡化

 

半导体行业超纯水制备反渗透设备


设备特点:

1. 透水量大,脱盐率高。正常情况下≥98%

2. 对有机物,胶体、微粒、细菌、病毒、热源等有很高的截留去除作用。

3. 能耗小,水利用率高,运行费用低于其它脱盐设备。

4. 分离过程没有相变,具有可靠稳定性。

5. 设备体积小,操作简单、容易维护,适应性强,使用寿命长


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